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壓敏電阻交流作用下的老化機理
交流作用下。在正半周時,假設右側(cè)為正極性,電壓主要加在右側(cè)的耗盡層上,使右側(cè)的Zni向晶界遷移,而左側(cè)所加電壓很低,Zn
i向晶粒內(nèi)遷移不大;在負半周,電壓主要加在左側(cè),使左側(cè)Zni向晶界遷移,右側(cè)這時所加電壓很低,Zni向晶粒體內(nèi)遷移不大??偟慕Y(jié)果是左右兩側(cè)的Zni都向晶界遷移。
源林電子是一家專業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)壓敏電阻的高科技電子元器件企業(yè)。主營壓敏電阻、熱敏電阻和溫度傳感器,自有研發(fā)團隊,廠家直銷!
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非線性區(qū)域:
中電場區(qū)為非線性區(qū)域,也是壓敏電阻器應用中重要的區(qū)域,導電機理主要是隧道電流及空穴生成降低勢壘。如只考慮隧道效應J = J0exp(-λ/E),λ為3π(2m)1/2φ3/2/2he,E為耗盡層中的電場強度,算出的a值低于50。
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ZnO 壓敏電阻的微觀結(jié)構(gòu)分析發(fā)現(xiàn),形成的四個主要 成分是 ZnO、尖晶石、焦綠石和一些富?。拢椤∠啵▓D?。常?。圖 中也指明了組分存在的部位,還存在一些用現(xiàn)有技術尚不 易檢測出來的其它次要相。 ZnO 壓敏電阻的典型晶粒尺寸在15和20μm 之間, 并且也總是伴有雙晶。SiO2的存在抑制晶粒生長,而?。裕椋希病?和?。拢幔稀t加速晶粒長大。尖晶石和焦綠石相對晶粒長大有 抑制作用。焦綠石相在低溫時起作用,而尖晶石相在高溫 時有利。當用鹽酸浸蝕晶粒時,中間相呈現(xiàn)出在電性上絕 緣的三維網(wǎng)絡。 燒結(jié)形成的 ZnO 晶粒是?。冢睿稀好綦娮璧幕緲?gòu)成單純?。冢睿稀∈蔷哂芯€性?。桑铡√匦缘姆腔瘜W計量 n 型半導 體。進入 ZnO 中的各種添加物使其具有非線性。這些氧 化物中主要是 Bi 2O3。這些氧化物的引入,在晶粒和晶粒 邊界處形成原子缺陷,施主或類施主缺陷支配著耗盡層, 而受主和類受主缺陷支配著晶粒邊界狀態(tài)。相關的缺陷類 型是鋅空位(V Zn'、V Zn'')、氧空位(V o 、V o )、填隙鋅
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